Машина за полирање со јонски зрак за сафир SiC Si

Краток опис:

Машината за обликување и полирање со јонски зраци е базирана на принципот најонско распрскувањеВнатре во комора со висок вакуум, јонски извор генерира плазма, која се забрзува во јонски зрак со висока енергија. Овој зрак ја бомбардира површината на оптичката компонента, отстранувајќи материјал на атомско ниво за да се постигне ултрапрецизна корекција и завршна обработка на површината.

Испратете ни е-пошта

Карактеристики

Детален дијаграм

Преглед на производот на машината за полирање со јонски зрак

Машината за обликување и полирање со јонски зрак се базира на принципот на јонско распрскување. Внатре во комора со висок вакуум, јонски извор генерира плазма, која се забрзува во јонски зрак со висока енергија. Овој зрак ја бомбардира површината на оптичката компонента, отстранувајќи материјал на атомско ниво за да се постигне ултрапрецизна корекција и завршна обработка на површината.

Како бесконтактен процес, полирањето со јонски зрак го елиминира механичкиот стрес и избегнува оштетување на подземјето, што го прави идеално за производство на високопрецизна оптика што се користи во астрономијата, воздухопловството, полупроводниците и напредните истражувачки апликации.

Принцип на работа на машина за полирање со јонски зрак

Генерација на јони
Инертен гас (на пр., аргон) се внесува во вакуумската комора и се јонизира преку електрично празнење за да се формира плазма.

Забрзување и формирање на зраци
Јоните се забрзуваат до неколку стотици или илјадници електронски волти (eV) и се обликуваат во стабилна, фокусирана точка на зракот.

Отстранување на материјал
Јонскиот зрак физички ги распрскува атомите од површината без да иницира хемиски реакции.

Детекција на грешки и планирање на патека
Отстапувањата на површинската фигура се мерат со интерферометрија. Функциите за отстранување се применуваат за да се одредат времето на задржување и да се генерираат оптимизирани патеки на алатките.

Корекција со затворена јамка
Итеративните циклуси на обработка и мерење продолжуваат сè додека не се постигнат целите за прецизност на RMS/PV.

Клучни карактеристики на машината за полирање со јонски зрак

Универзална површинска компатибилност– Обработува рамни, сферични, асферични и слободни површини

Ултра-стабилна стапка на отстранување– Овозможува корекција на бројки под нанометри

Обработка без оштетување– Нема подповршински дефекти или структурни промени

Доследни перформанси– Работи подеднакво добро на материјали со различна тврдост

Корекција на ниска/средна фреквенција– Ги елиминира грешките без генерирање артефакти со средна/висока фреквенција

Ниска потреба за одржување– Долго континуирано работење со минимално време на застој

Главни технички спецификации на машината за полирање со јонски зрак

Ставка	Спецификација
Метод на обработка	Јонско распрскување во средина со висок вакуум
Тип на обработка	Бесконтактно обликување и полирање на површини
Максимална големина на работното парче	Φ4000 мм
Оски на движење	3-оски / 5-оски
Стабилност на отстранување	≥95%
Точност на површината	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (типичен RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Можност за корекција на фреквенција	Ги отстранува грешките со ниска и средна фреквенција без да воведува грешки со средна/висока фреквенција
Континуирано работење	3–5 недели без одржување на вакуум
Трошоци за одржување	Ниско

Можности за обработка на машина за полирање со јонски зрак

Поддржани типови површини

Едноставно: Рамно, сферично, призматично

Комплексно: Симетрично/асиметрично асферо, асферо надвор од оската, цилиндрично

Специјално: Ултратенка оптика, летваста оптика, хемисферична оптика, конформна оптика, фазни плочи, површини со слободна форма

Поддржани материјали

Оптичко стакло: кварцно, микрокристално, K9, итн.

Инфрацрвени материјали: силициум, германиум, итн.

Метали: алуминиум, не'рѓосувачки челик, легура на титаниум, итн.

Кристали: YAG, монокристален силициум карбид, итн.

Тврди/кршливи материјали: силициум карбид, итн.

Квалитет на површината / Прецизност

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Студии на случај за обработка на машина за полирање со јонски зрак

Случај 1 – Стандардно рамно огледало

Работен дел: Кварцна рамна површина D630 mm

Резултат: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Случај 2 – Рефлективно огледало за рендгенски зраци

Работен дел: силиконска плочка од 150 × 30 mm

Резултат: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Наклон 0,13 µrad

Случај 3 – Огледало надвор од оската

Работен дел: Д326 мм огледало за заземјување надвор од оската

Резултат: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Најчесто поставувани прашања за кварцни очила

Најчесто поставувани прашања – Машина за полирање со јонски зрак

П1: Што е полирање со јонски зрак?
А1:Полирањето со јонски зрак е бесконтактен процес кој користи фокусиран зрак јони (како што се аргонски јони) за отстранување на материјал од површината на обработуваниот материјал. Јоните се забрзуваат и се насочуваат кон површината, предизвикувајќи отстранување на материјал на атомско ниво, што резултира со ултра-мазни завршни обработки. Овој процес ги елиминира механичките стресови и оштетувањата на подповршината, што го прави идеален за прецизни оптички компоненти.

П2: Какви видови површини може да обработи машината за полирање со јонски зраци?
А2:НаМашина за полирање со јонски зракможе да обработи различни површини, вклучувајќи едноставни оптички компоненти како што серамнини, сфери и призми, како и сложени геометрии какоасфери, асфери надвор од оската, ислободни површиниОсобено е ефикасен на материјали како оптичко стакло, инфрацрвена оптика, метали и тврди/кршливи материјали.

П3: Со какви материјали може да работи машината за полирање со јонски зраци?
А3:НаМашина за полирање со јонски зракможе да полира широк спектар на материјали, вклучувајќи:

Оптичко стакло: Кварц, микрокристален, K9, итн.
Инфрацрвени материјалиСилициум, германиум, итн.
Метали: Алуминиум, не'рѓосувачки челик, легура на титаниум, итн.
Кристални материјали: YAG, монокристален силициум карбид, итн.
Други тврди/кршливи материјали: Силициум карбид, итн.

За нас

XKH е специјализирана за високотехнолошки развој, производство и продажба на специјално оптичко стакло и нови кристални материјали. Нашите производи се наменети за оптичка електроника, потрошувачка електроника и војска. Нудиме сафирни оптички компоненти, капаци за леќи за мобилни телефони, керамика, LT, силициум карбиден SIC, кварц и полупроводнички кристални плочки. Со стручна експертиза и најсовремена опрема, ние се истакнуваме во преработката на нестандардни производи, со цел да бидеме водечка високотехнолошка компанија за оптоелектронски материјали.