6-инчен SiC Epitaxiy нафора N/P тип прифати прилагодено
Процесот на подготовка на епитаксијален нафора со силициум карбид е метод кој користи технологија за хемиско таложење на пареа (CVD).Следниве се релевантните технички принципи и чекорите на процесот на подготовка:
Технички принцип:
Хемиско таложење на пареа: Користејќи го суровинскиот гас во гасната фаза, во специфични услови на реакција, тој се распаѓа и се депонира на подлогата за да се формира саканиот тенок филм.
Реакција на гасна фаза: Преку реакција на пиролиза или напукнување, различните суровини гасови во гасната фаза хемиски се менуваат во комората за реакција.
Фази на процесот на подготовка:
Третман на подлогата: Подлогата е подложена на површинско чистење и предтретман за да се обезбеди квалитетот и кристалноста на епитаксијалната обланда.
Дебагирање на комората за реакција: прилагодете ја температурата, притисокот и брзината на проток на комората за реакција и другите параметри за да се обезбеди стабилност и контрола на условите на реакцијата.
Снабдување со суровини: снабдувајте ги потребните суровини за гас во комората за реакција, мешајќи и контролирајќи ја брзината на проток по потреба.
Процес на реакција: Со загревање на комората за реакција, гасната суровина подлежи на хемиска реакција во комората за да се добие саканиот депозит, односно филм од силициум карбид.
Ладење и растоварување: на крајот од реакцијата, температурата постепено се намалува за да се изладат и зацврстат наслагите во комората за реакција.
Епитаксијално жарење и пост-обработка: депонираната епитаксијална обланда се жари и пост-обработува за да се подобрат неговите електрични и оптички својства.
Специфичните чекори и услови на процесот на подготовка на епиаксијална обланда со силициум карбид може да варираат во зависност од специфичната опрема и барања.Горенаведеното е само општ процес и принцип, специфичната операција треба да се прилагоди и оптимизира според фактичката ситуација.
Детален дијаграм
![WechatIMG321](http://www.xkh-semitech.com/uploads/WechatIMG321.jpg)
![WechatIMG320](http://www.xkh-semitech.com/uploads/WechatIMG320.jpg)